Un equipo de científicos chinos, liderado por un ex-ingenífico de ASML, ha desarrollado una nueva plataforma de fuente de luz de ultravioleta extremo (UVE) que evita las patentes de la empresa neerlandesa. Este avance representa un paso crucial en la búsqueda de China por la independencia tecnológica en la fabricación de semiconductores, aunque aún enfrenta desafíos para la producción a gran escala.
La litografía de ultravioleta extremo (UVE) representa el principal obstáculo en la industria de los semiconductores. La empresa neerlandesa ASML es la única en el mundo que fabrica estas máquinas, esenciales para producir circuitos integrados por debajo de los 7 nm. Desde 2019, ASML tiene prohibido vender sus modelos más avanzados a China debido a la presión de Estados Unidos. Cada equipo tiene un costo entre 200 y 400 millones de dólares, y hasta la fecha, ningún cliente chino ha logrado adquirir uno.
Un equipo de la Academia China de Ciencias, con sede en el Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái, ha logrado construir la primera plataforma china de fuente de luz UVE por láser-plasma. Al frente de este proyecto se encuentra Lin Nan, un ex-científico de ASML y responsable técnico de sus fuentes de luz para metrología, quien regresó a China en 2021 como parte de un programa estatal de atracción de talento. Su equipo ha optado por un enfoque que evita deliberadamente el método de ASML, así como más de 2.000 de sus patentes. Qiu Yanfang, una columnista china especializada en semiconductores, ha afirmado que este desvío de patentes no es solo una maniobra legal, sino una ingeniería genuina. Esta valoración, publicada hace apenas dos semanas, ha vuelto a centrar la atención en el progreso real de China en su carrera por la independencia tecnológica en litografía.
El truco técnico consiste en que, mientras ASML genera luz UVE disparando potentes láseres de dióxido de carbono contra gotas de estaño en movimiento (un método conocido como LPP), el equipo de Lin Nan utiliza un láser de estado sólido de 1 micra que impacta un blanco de estaño sólido. En un artículo publicado en diciembre de 2024, Lin y su equipo ya defendían que este tipo de láseres podría reemplazar a los de dióxido de carbono como fuente de próxima generación debido a su tamaño compacto y su mayor eficiencia de conversión.
No obstante, la propia Qiu Yanfang modera su entusiasmo inicial. Sostiene que, a corto plazo, esta fuente de estado sólido no puede desafiar el dominio de ASML, ya que toda la industria global de los semiconductores ha establecido sus cadenas de suministro, patentes y experiencia de ingeniería en torno al láser de dióxido de carbono. Aunque la tecnología china logre resultados en el laboratorio, aún tiene un largo camino por recorrer para alcanzar la producción a gran escala. El valor real del logro de Lin, en cualquier caso, reside en sentar las bases y formar un equipo de investigación que abarque desde la teoría hasta la ingeniería aplicada.
Este esfuerzo coexiste, además, con otra vía paralela y mucho más discreta. Según reveló Reuters en diciembre de 2025, China ha ensamblado un prototipo operativo de máquina UVE dentro de un laboratorio de alta seguridad en Shenzhen, aunque aún no produce circuitos integrados funcionales. Huawei coordina esta iniciativa, que involucra a miles de ingenieros: el Instituto de Tecnología de Harbin se encarga de la fuente de luz, el Instituto de Óptica de Changchún de los sistemas ópticos, y SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) de la integración final, con SiCarrier (la empresa china respaldada por el Gobierno de Shenzhen y vinculada a Huawei) como otro de los actores clave. El Gobierno chino aspira a producir chips con esta tecnología en 2028, aunque la mayoría de los analistas considera 2030 una fecha más realista.
Por ahora, ningún prototipo chino ha demostrado ser capaz de fabricar circuitos integrados comerciales con litografía UVE propia. Las dudas sobre la velocidad real de este avance han vuelto a la primera línea informativa por un motivo muy distinto. El secretario de Comercio de EEUU, Howard Lutnick, ha planteado a directivos sénior de ASML la posibilidad de que uno de sus equipos UVE haya llegado a China por canales clandestinos, algo que la compañía neerlandesa ha negado de forma rotunda: ninguna de sus 314 máquinas UVE operativas en el mundo, ni ninguna de las 26 ya retiradas, se encuentra en territorio chino.
China aún no posee su máquina UVE. Sin embargo, gracias a Lin Nan, ya tiene algo que hasta hace poco tampoco tenía: un camino propio para intentar construirla.
